Docente Investigador del ITSCH colabora en la primera contribución del TecNM al International Centre for Diffraction Data (ICDD®)

Docente Investigador del ITSCH colabora en la primera contribución del TecNM al International Centre for Diffraction Data (ICDD®)

Ciudad Hidalgo, Mich.-En estos días se dio a conocer que el Docente Investigador del ITSCH, Dr. Manuel Alejandro Valdés Madrigal forma parte de un grupo de representantes del Tecnológico Nacional de México (TecNM), que colaboraron en la primera contribución del TecNM al Internacional Centre for Difrfraction Data (ICDD®️).

Al respecto el Director General del ITSCH, Maestro Javier Irepan Hacha, expresó la enorme alegría que esto representa para el Imperio del Jaguar, quedando de manifestó la calidad de los docentes e investigadores con lo que se cuenta, y que hacen que junto con todo el equipo de trabajadores y trabajadoras, se mantenga la calidad de la institución para que siempre se destaque no solo en la región y a nivel nacional, también de manera internacional, al mismo tiempo recordó que aún hay espacios disponibles para quienes quieran estudiar en una de las mejores escuelas de ingeniería del país, recordó que la segunda ronda de fichas de nuevo ingreso está vigente una día antes del segundo examen de admisión que será este 23 de julio.

Por su parte el propio Investigador del ITSCH, Dr. Manuel Alejandro Valdés Madrigal comentó que con esta aportación se  refrendar la capacidad innovadora del Tecnológico Nacional de México  en la generación de conocimiento a nivel internacional, y recordó que en esta oportunidad, se pudo sumar a los trabajos de los investigadores, liderados por Dr. Hugo Rojas Chávez del Instituto Tecnológico de Tláhuac II,  acompañados por el Dr. Guillermo Carbajal Franco del Instituto Tecnológico de Toluca, de los Dres. Heriberto Cruz Martínez y Fernando Montejo Álvaro de Instituto Tecnológico de Valle de Etla, así como otras instituciones nacionales, que dieron como resultado la primera contribución del TecNM al International Centre for Diffraction Data (ICDD®) que estará disponible en PDF-5+ 2025.

Valdés Madrigal, recordó que este logró se derivó del artículo “A chemical model to predict the formation of a semiconductor solid solution: New insights in the use of bulk and surface mechanochemical reactions”, publicado en junio del 2021 en la revista Applied Surface Science (https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.150455), donde participaron los ya mencionados investigadores del TecNM), y por la calidad de la investigación, el International Centre for Diffraction Data (ICDD®), publicará la información cristalográfica correspondiente al material sintetizado, en la base de datos, que estará disponible en la edición PDF-5+ 2025. El ICDD® y que es reconocido por publicar las fichas Powder Difraction File (PDF) que son fuente de información fundamental para la comunidad científica que realiza análisis por difracción de rayos-x.

Cabe mencionar que el ICDD®️ es una organización científica internacional dedicada a recopilar, editar, publicar y distribuir datos de difracción que son un referente para la identificación de materiales en diferentes áreas de la ciencia, la tecnología y otros campos del conocimiento.

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